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    日本Atomax BN系列二流體噴嘴:半導(dǎo)體行業(yè)去膠剝離機(jī)效率提高的解決方案

    發(fā)布時間: 2025-08-25  點擊次數(shù): 30次
    在半導(dǎo)體制造過程中,全自動去膠剝離機(jī)的性能對于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要。日本Atomax公司推出的BN系列二流體噴嘴,憑借其高流量處理能力和穩(wěn)定的霧化性能,為半導(dǎo)體行業(yè)的全自動去膠剝離機(jī)提供了高效的解決方案。

    技術(shù)特點

    • 高流量處理能力:BN系列噴嘴在AM系列的基礎(chǔ)上擴(kuò)展了噴霧流量范圍,能夠穩(wěn)定處理更高流量的噴霧需求。該系列包括BN90、BN160、BN200、BN500和BN1000等型號,液體噴霧端口直徑從φ2.0mm至φ6.0mm。
    • 防堵塞性能:保持了Atomax噴嘴的防堵塞性能,可連續(xù)運轉(zhuǎn)而不堵塞,能夠霧化大量處理液。
    • 適應(yīng)高粘度液體:BN系列噴嘴能夠處理高粘度液體,適用于多種應(yīng)用場景,包括半導(dǎo)體制造中的清洗和噴涂工序。

    應(yīng)用場景

    • 蝕刻后清洗:蝕刻工藝會在晶圓表面留下各種殘留物,包括蝕刻副產(chǎn)物、聚合物和未去除的光刻膠。BN系列噴嘴憑借較高的噴霧流量和處理能力,可有效應(yīng)對這一挑戰(zhàn),顯著提高產(chǎn)品良率。
    • 封裝基板清洗:在封裝過程中,基板表面可能存在灰塵、油脂等污染物,會影響芯片與封裝基板之間的連接可靠性。BN系列噴嘴可對封裝基板進(jìn)行高效清洗,確保封裝界面的潔凈度和良好的電氣性能。
    • CMP后清洗:化學(xué)機(jī)械拋光后,晶圓表面會殘留大量研磨顆粒和拋光液成分。BN系列噴嘴能夠處理含有固體顆粒的漿料型清洗液,可連續(xù)穩(wěn)定地清除CMP殘留物,提高工藝可靠性。

    優(yōu)勢與價值

    • 提高生產(chǎn)效率:BN系列噴嘴的高流量處理能力和穩(wěn)定的霧化性能,能夠顯著提高全自動去膠剝離機(jī)的生產(chǎn)效率。
    • 降低生產(chǎn)成本:通過減少液體消耗和提高清洗效率,BN系列噴嘴有助于降低生產(chǎn)成本。
    • 提高產(chǎn)品質(zhì)量:精確的霧化和穩(wěn)定的性能確保了清洗和噴涂的均勻性,減少了因工藝不均導(dǎo)致的缺陷。
    日本Atomax的BN系列二流體噴嘴以其高流量處理能力、防堵塞性能和適應(yīng)高粘度液體的能力,為半導(dǎo)體行業(yè)的全自動去膠剝離機(jī)提供了高效、可靠的解決方案,有助于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。


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