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    日本Sakigakes真空等離子體裝置YHS-R 薄膜形成預處理的高效解決方案

    發(fā)布時間: 2025-07-29  點擊次數(shù): 67次
    在薄膜制造領域,表面預處理是確保薄膜質(zhì)量的關鍵步驟之一。日本Sakigakes的YHS-R真空等離子體裝置憑借其高效、緊湊的設計,為薄膜形成前的預處理提供了一種理想的解決方案。

    設備特點

    YHS-R是一款桌面型真空等離子體裝置,具有緊湊的結構和便于操作的特點。其外形尺寸為220mm(寬)×250mm(深)×300mm(高),重量僅為6.8公斤,非常適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。該設備的上下電極分別采用鋁和不銹鋼材料,能夠滿足多種材料的處理需求。

    薄膜形成預處理的應用

    在薄膜形成前的預處理過程中,YHS-R能夠有效改善基材表面的清潔度和活性,從而提高薄膜的附著力和均勻性。等離子體處理可以去除表面的有機污染物,同時引入極性基團,增強基材與薄膜之間的化學鍵合。這種預處理方式對于提高薄膜的性能和質(zhì)量至關重要。

    技術參數(shù)

    • 平臺尺寸:φ100mm
    • 電源:單相100V,50/60Hz,5.0A
    • 可選支持:氣體引入、壓力調(diào)整、電源控制等(需額外付費)

    操作與維護

    YHS-R的操作非常簡便,配備放電定時器和復位開關,用戶可以根據(jù)需要靈活調(diào)整處理時間和操作模式。此外,設備的維護也非常方便,帶有AC100V插座,便于連接和使用。

    總結

    日本Sakigakes的YHS-R真空等離子體裝置以其高效、緊湊的設計和簡便的操作,為薄膜形成前的預處理提供了一種理想的解決方案。它不僅能夠顯著提高薄膜的附著力和均勻性,還能有效改善基材表面的清潔度和活性。對于需要進行薄膜制造的實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境來說,YHS-R無疑是一個值得考慮的選擇。


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