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    日本Mikasa小型旋轉(zhuǎn)涂膜器MS-B100:半導(dǎo)體與光學(xué)涂層的理想選擇

    發(fā)布時間: 2025-07-29  點擊次數(shù): 74次
    在半導(dǎo)體和光學(xué)涂層領(lǐng)域,精確的薄膜制備是確保器件性能的關(guān)鍵。日本Mikasa的MS-B100小型旋轉(zhuǎn)涂膜器憑借其高性能和靈活性,成為實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中理想的薄膜制備設(shè)備。

    設(shè)備特點

    MS-B100采用AC伺服電機,具備無刷式設(shè)計,不僅避免了對無塵室的污染,還減少了電機發(fā)熱,降低了因連續(xù)使用導(dǎo)致溫度上升對膜厚再現(xiàn)性的影響。其最大可處理φ4英寸晶圓或75×75mm基板,適用于多種半導(dǎo)體和光學(xué)涂層應(yīng)用。

    技術(shù)參數(shù)

    • 最大基板尺寸:φ4英寸晶圓或75×75mm基板
    • 轉(zhuǎn)速范圍:20~8,000轉(zhuǎn)/分
    • 旋轉(zhuǎn)精度:±1rpm(負(fù)載時)
    • 電機類型:交流伺服電機
    • 旋轉(zhuǎn)室直徑:φ220mm
    • 步進模式數(shù)量:100步×10種模式
    • 時間設(shè)置:999.9秒
    • 電源:AC100~240V,5A
    • 外形尺寸:259mm(寬)×246mm(高)×330mm(深)
    • 重量:10公斤

    功能與應(yīng)用

    MS-B100具備高度的靈活性和可編程性,能夠滿足多種涂層工藝需求。其100步×10種模式的編程功能,使得用戶可以輕松設(shè)置復(fù)雜的涂層工藝。在半導(dǎo)體制造中,MS-B100可用于光刻膠的均勻涂布,確保后續(xù)光刻和蝕刻工藝的精確性。在光學(xué)涂層領(lǐng)域,該設(shè)備能夠精確控制薄膜厚度,實現(xiàn)高質(zhì)量的光學(xué)薄膜制備。
    此外,MS-B100還配備了數(shù)字式真空計和安全聯(lián)鎖裝置,確保操作的安全性和穩(wěn)定性。其無刷電機設(shè)計減少了維護需求,降低了長期使用成本。

    總結(jié)

    日本Mikasa的MS-B100小型旋轉(zhuǎn)涂膜器憑借其高性能、靈活性和可靠性,成為半導(dǎo)體和光學(xué)涂層領(lǐng)域薄膜制備的理想選擇。無論是實驗室研發(fā)還是小規(guī)模生產(chǎn),MS-B100都能提供精確、高效的涂層解決方案,助力用戶實現(xiàn)高質(zhì)量的薄膜制備。


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